近日
，瑞典 Ionautics 公司宣布其全新研發的 HiPSTER 25 緊湊型高性能高功率脈衝磁控濺射（HiPIMS）脈衝電源成功完成首次運行。Ionautics 成立於 2010 年，長期深耕於電離物理氣相沉積領域

， HiPSTER 25提供高達 25kW 功率，不僅重新定義了行業高效運行模式，還極大提升了性能與能量效率。其采用的碳化矽（SiC）晶體管成為一大亮點。SiC 作為新型半導體材料，具備耐高溫、高(gao)頻(pin)率(lv)特(te)性(xing)以(yi)及(ji)卓(zhuo)越(yue)導(dao)電(dian)性(xing)能(neng)。相(xiang)較(jiao)於(yu)傳(chuan)統(tong)矽(gui)基(ji)材(cai)料(liao)，它(ta)能(neng)夠(gou)承(cheng)受(shou)更(geng)高(gao)工(gong)作(zuo)溫(wen)度(du)，擁(yong)有(you)更(geng)快(kuai)開(kai)關(guan)速(su)度(du)，這(zhe)大(da)幅(fu)提(ti)升(sheng)了(le)能(neng)量(liang)效(xiao)率(lv)與(yu)工(gong)藝(yi)穩(wen)定(ding)性(xing)
，有(you)效(xiao)減(jian)少(shao)了(le)能(neng)量(liang)損(sun)失(shi)和(he)熱(re)管(guan)理(li)難(nan)題(ti)，提(ti)供(gong)靈(ling)活(huo)且(qie)穩(wen)定(ding)的(de)鍍(du)膜(mo)過(guo)程(cheng)，有(you)力(li)確(que)保(bao)了(le)鍍(du)膜(mo)質(zhi)量(liang)的(de)一(yi)致(zhi)性(xing) 。

HiPSTER 25 雙極模式

HiPSTER 25搭載的雙極HiPIMS技術

，無需基底偏壓即可實現離子加速，jianhuagongyibuzhou，tishengdumozhiliangyujunyunxing。tongguojingquetiaokonglizinenglianghefangxiang
，tanengzaigeleijicaishangxingchengguanghuazhimidetuceng，xianzhuzengqiangchanpinnaimoxing
、耐腐蝕性和光學性能。此外，該設備集成豐富的工藝參數調整選項，用戶可按需精細調節氣體流量

、放電電壓和脈衝頻率等，無論是硬質塗層
、光學鍍膜還是電氣塗層
，都能實現良好效果。其外部觸發多個電源的功能
，更為複雜的多層鍍膜和複合結構鍍膜創造了可能。

新型開關技術的應用

，讓 HiPSTER 25的HiPIMS脈衝頻率達到150kHz，高(gao)頻(pin)脈(mai)衝(chong)不(bu)僅(jin)提(ti)升(sheng)鍍(du)膜(mo)效(xiao)率(lv)，還(hai)能(neng)促(cu)進(jin)薄(bo)膜(mo)均(jun)勻(yun)致(zhi)密(mi)沉(chen)積(ji)，尤(you)其(qi)在(zai)處(chu)理(li)複(fu)雜(za)三(san)維(wei)結(jie)構(gou)時(shi)優(you)勢(shi)顯(xian)著(zhu)。增(zeng)強(qiang)的(de)脈(mai)衝(chong)控(kong)製(zhi)功(gong)能(neng)
，可(ke)精(jing)準(zhun)調(tiao)節(jie)脈(mai)衝(chong)形(xing)狀(zhuang)、寬度和能量分布，成為研發新型材料和優化現有工藝的得力工具。

HiPSTER 25 優勢

為進一步保障鍍膜質量，HiPSTER 25集成了Ionautics的反應過程控製係統。該gai係xi統tong實shi時shi監jian測ce和he調tiao節jie鍍du膜mo化hua學xue反fan應ying，精jing確que控kong製zhi鍍du膜mo成cheng分fen與yu結jie構gou，減jian少shao缺que陷xian和he雜za質zhi，提ti升sheng鍍du膜mo穩wen定ding性xing和he沉chen積ji率lv。經jing過guo廣guang泛fan測ce試shi和he優you化hua，HiPSTER 25在反應式 HiPIMS 及其他各類磁控管工藝中均表現優異。

從具體性能參數來看
，HiPSTER 25輸出平均功率小於 25KW，支持電壓、電流
、功率等多種調節模式
，脈衝電流電弧控製反應時間小於2μs；輸入電壓靈活適配100-240VAC，支持RS 232、RS 485等多種遠程通信方式。無論是單極模式下的高電壓大電流輸出，還是可選的雙極模式和脈衝模式直流
，都能滿足多樣化的工藝需求。

廣泛應用範圍

HiPSTER 25的應用場景廣泛。在擴散屏障和電氣塗層製備中，它能增加塗層密度
，提升擴散屏障阻隔性能
，防止材料相互滲透；通過優化塗層厚度和熱負荷，提高導電材料導電性與絕緣體隔離效果，為電子封裝和電力傳輸提供高效方案。在航空航天、醫療器械和汽車製造等對三維塗層要求嚴苛的行業，HiPSTER 25憑借出色的鍍膜均勻性

，可在複雜形狀基材上實現薄膜均勻覆蓋
，助力高端製造升級。

瑞典Ionautics以推動行業進步為使命
，未來，我們將繼續深耕HiPIMS技術領域，以HiPSTER 25為新起點
，持續優化產品性能

，拓展應用邊界。同時，我們希望通過HiPSTER 25搭建與全球客戶緊密合作的橋梁，共同探索離子鍍膜技術。