Qorvo SiC FET與SiC MOSFET優勢對比
發布時間:2024-04-15 責任編輯:lina
【導讀】眾多終端產品製造商紛紛選擇采用SiC技術替代矽基工藝,來開發基於雙極結型晶體管(BJT)、結柵場效應晶體管(JFET)、金屬氧化物半導體場效應晶體管(MOSFET)和絕緣柵雙極晶體管(IGBT)的電源產品。然而,Qorvo研發的SiC“共源共柵結構”FET器件(如圖2所示)使這項技術更進一步。這些器件基於獨特的“共源共柵結構”電路配置,將一個常開型SiC JFET器件與一個矽基MOSFET共同封裝,形成一個集成的常關型SiC FET器件。在接下來的段落中,我們將詳細闡述 Qorvo 研發的 SiC FET(共源共柵結構FET)相較於同類SiC MOSFET的顯著優勢。
在之前一篇題為《功率電子器件從矽(Si)到碳化矽(SiC)的過渡》的博文中,我們探討了碳化矽(SiC)如何成為功率電子市場一項“顛覆行業生態”的技術。如圖1所示,與矽(Si)材料相比,SiC具有諸多技術優勢,因此我們不難理解為何它已成為電動汽車(EV)、數據中心和太陽能/可再生能源等許多應用領域中備受青睞的首選技術。

圖1.矽與碳化矽的對比
眾多終端產品製造商紛紛選擇采用SiC技術替代矽基工藝,來開發基於雙極結型晶體管(BJT)、結柵場效應晶體管(JFET)、金屬氧化物半導體場效應晶體管(MOSFET)和絕緣柵雙極晶體管(IGBT)的電源產品。然而,Qorvo研發的SiC“共源共柵結構”FET器件(如圖2所示)使這項技術更進一步。這些器件基於獨特的“共源共柵結構”電路配置,將一個常開型SiC JFET器件與一個矽基MOSFET共同封裝,形成一個集成的常關型SiC FET器件。在接下來的段落中,我們將詳細闡述 Qorvo 研發的 SiC FET(共源共柵結構FET)相較於同類SiC MOSFET的顯著優勢。

圖2.Qorvo SiC FET(“共源共柵結構”FET)器件結構框圖
SiC MOSFET或SiC FET與矽基器件相比擁有幾個顯著優勢。首先,SiC作為一種寬帶隙材料,具有更高的擊穿電壓,因而可以使用更薄的器件來支持更高的電壓。除此之外,SiC相較於矽基器件還有以下優勢:
對於給定的電壓和電阻等級,SiC可以實現更高的工作頻率,因此可以減少無源器件的體積,從而減小整個係統的尺寸及成本 對於更高的電壓等級(1200V或更高),SiC能夠以較低的功率損耗實現高頻開關;而在如此電壓等級下仍能勝任的矽基器件實際上幾乎不存在 在任何給定的封裝中,SiC相對矽基產品具有更低的導通電阻和開關損耗 在與矽器件相同的設計中,SiC能夠讓客戶獲得更高的效率、更出色的散熱性能,和更高的係統額定功率
這些優勢同樣體現在Qorvo SiC FET的性能上。作為一種更新且功能更強大的器件,Qorvo SiC FET針對多種功率應用進行了優化,並帶來了以下額外收益:
Qorvo SiC FET的架構采用標準矽柵極驅動器,這使得從矽到SiC的過渡更加順暢,同時也為設計師提供了更大靈活性 在給定封裝中,具有行業最低的漏-源導通電阻 RDS(ON),可最大程度提升係統效率 更低的電容允許更快的開關速度,進而實現更高的工作頻率;這進一步減小了電感器和電容器等大體積無源元件的尺寸 與矽基IGBT相比,SiC FET在更高電壓等級(1200V或更高)能夠實現更高的工作頻率。矽基IGBT雖然傳統上服務於這一細分市場,但通常速度較慢,僅在較低頻率下使用,因此開關損耗較高 Qorvo SiC FET器件能在給定RDS(ON)的條件下獲得更小的裸片尺寸,並減輕SiC MOSFET產品常見的柵極氧化物可靠性問題
讓我們花一些時間更深入地了解SiC MOSFET與Qorvo SiC FET兩種功率技術間的差異。從下麵的圖3中,我們會發現SiC MOSFET技術不同於Qorvo的集成SiC FET——這是精心設計的結果。Qorvo利用SiC JFET消除了SiC MOSFET的柵極氧化層,進而消除了溝道電阻,讓裸片尺寸更為緊湊。
Qorvo SiC JFET較小的裸片尺寸成為其差異化優勢的一個關鍵所在,並通過圖4所示的‘RDS(ON) x A’(RdsA)品質因數(FOM)得到最佳體現。這意味著對於給定的芯片尺寸,Qorvo SiC FET提供了更低的導通電阻額定值;換言之,在相同的RDS(ON)條件下,Qorvo SiC FET所需的SiC裸片尺寸更小。Qorvo憑借在RdsA FOM方麵的卓越表現樹立了行業領先地位;其所提供的超低額定電阻產品能適用TOLL和D2PAK等相對較小的行業標準封裝,讓這一點得以充分展現。

圖3.SiC MOSFET與Qorvo SiC FET的比較
Qorvo的SiC FET與SiC MOSFET相比具有更低的輸出電容Coss。輸(shu)出(chu)電(dian)容(rong)較(jiao)低(di)的(de)器(qi)件(jian)在(zai)低(di)負(fu)載(zai)電(dian)流(liu)下(xia)開(kai)關(guan)速(su)度(du)更(geng)快(kuai),電(dian)容(rong)充(chong)電(dian)延(yan)遲(chi)時(shi)間(jian)更(geng)短(duan)。這(zhe)意(yi)味(wei)著(zhe),由(you)於(yu)減(jian)少(shao)了(le)對(dui)電(dian)感(gan)器(qi)和(he)電(dian)容(rong)器(qi)等(deng)較(jiao)大(da)體(ti)積(ji)無(wu)源(yuan)元(yuan)件(jian)的(de)需(xu)求(qiu),使(shi)得(de)終(zhong)端(duan)設(she)備(bei)能(neng)夠(gou)實(shi)現(xian)更(geng)小(xiao)的(de)體(ti)積(ji)、更輕的重量、更低的成本,並獲得更高的功率密度。

圖4.Qorvo SiC FET與SiC MOSFET競品對比
SiC MOSFET還麵臨以下技術挑戰:
SiC MOS溝道電阻高,導致電子遷移率較低 在柵極偏壓較高的情況下,Vth可能發生漂移;這限製了柵極到源極的電壓驅動範圍 體二極管具有較高的拐點電壓,因此需要同步整流
然而,采用Qorvo SiC FET後,上述缺陷得以根本解決,原因如下:
SiC JFET 結構的器件上摒棄了MOS(金屬氧化物)結構,因此器件更加可靠 相同芯片麵積下,漏極至源極電阻更低 電容更低,相當於更快的開關轉換和更高的頻率
盡管市場上可供選擇的SiC功率半導體種類繁多,但在某些特定應用中,一些器件的表現確實比其它器件更為出色。Qorvo的集成SiC“共源共柵結構”FET技術便是其中的佼佼者;其憑借低RDS(ON)、低輸出電容,和高可靠性等獨特優勢提供了卓越性能。這些品質因數推動Qorvo的SiC FET技術在其它技術無法企及的領域大放異彩。此外,SiC FET的附加性能使其在AC/DC電源單元、DC/DC儲能和可再生能源應用,以及電動汽車快速充電器中實現更高的效率。
免責聲明:本文為轉載文章,轉載此文目的在於傳遞更多信息,版權歸原作者所有。本文所用視頻、圖片、文字如涉及作品版權問題,請聯係小編進行處理。
推薦閱讀:
- 噪聲中提取真值!瑞盟科技推出MSA2240電流檢測芯片賦能多元高端測量場景
- 10MHz高頻運行!氮矽科技發布集成驅動GaN芯片,助力電源能效再攀新高
- 失真度僅0.002%!力芯微推出超低內阻、超低失真4PST模擬開關
- 一“芯”雙電!聖邦微電子發布雙輸出電源芯片,簡化AFE與音頻設計
- 一機適配萬端:金升陽推出1200W可編程電源,賦能高端裝備製造
- 1200餘家企業齊聚深圳,CITE2026打造電子信息產業創新盛宴
- 掌握 Gemini 3.1 Pro 參數調優的藝術
- 築牢安全防線:電池擠壓試驗機如何為新能源產業護航?
- Grok 4.1 API 實戰:構建 X 平台實時輿情監控 Agent
- 電源芯片國產化新選擇:MUN3CAD03-SF助力物聯網終端“芯”升級
- 車規與基於V2X的車輛協同主動避撞技術展望
- 數字隔離助力新能源汽車安全隔離的新挑戰
- 汽車模塊拋負載的解決方案
- 車用連接器的安全創新應用
- Melexis Actuators Business Unit
- Position / Current Sensors - Triaxis Hall




