Molex公司子公司Polymicro Technologies最近宣布提升其FDP光纖產品
，最新的性能提升改進了光纖產品在深紫外線應用(190nm - 325nm)中的曝曬。

 

 

圖1：MOL162_Polymicro FDP

 

Polymicro Technologies全球產品經理Teodor Tichindelean表示：“推出光纖FDP革新性紫外線應用，讓我們很高興為客戶帶來具有更好品質的增強型FDP光纖產品
，用於耐受紫外線曝曬。”

Polymicro公司的silica內芯FDP光纖具有超高紫外線傳輸和超低紫外線曝曬特性，具有出色的耐輻射能力。在低至190nm條件下運作，並且具有出色的深紫外線耐曝曬特性
，FDP光纖已經成為深紫外線領域應用的首選光纖產品。新型FDP光纖提供了更好的耐曝曬性能，來維持更長的傳輸時間，同時最大限度地減少對光纖的損壞。

對於深紫外線領域應用
，高水平紫外線輻射的影響會引起光纖傳輸退化，光纖傳輸通常在數小時後發生損耗。

Tichindelean補充道：“與先前的產品型款相比，改進的FDP光纖在初始退化之後可將光輸出提高大約10%。對於Polymicro客戶
，這可以轉化為更好的光發射和更長的產品壽命。”

Polymicro FDP光纖實現了對尺寸的控製和緊密的容差

，並備有一係列選項，包括定製內芯尺寸、塗層、緩存和配件。Molex和Polymicro設施通過了ISO 9001、13485和14001認證。要了解有關Polymicro解決方案的更多信息，請訪問公司網頁www.polymicro.com。如要接收Molex產品和行業解決方案的信息，請在網址www.molex.com/link/register訂閱Molex電子報。